（2014•宿迁模拟）三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2

来源：学生作业帮编辑：百度作业网作业帮分类：化学作业时间：2024/04/29 08:26:57

（2014•宿迁模拟）三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃+5H₂O=2NO+HNO₃+9HF．下列有关该反应的说法正确的是（　　）

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂
B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2：1
C．若生成0.2 mol HNO₃，则转移0.2 mol电子
D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

A．只有N元素的化合价发生变化，NF₃既是氧化剂又是还原剂，故A错误；
B．NF₃生成NO，被还原，NF₃生成HNO₃，被氧化，还原剂与氧化剂的物质的量之比为1：2，故B错误；
C．生成0.2molHNO₃，转移的电子的物质的量为0.2mol×（5-3）=0.4mol，故C错误；
D．生成的NO易与空气中氧气反应生成红棕色气体二氧化氮，故D正确．
故选D．

（2014•宿迁模拟）三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2 三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+ 三氟化氮（NF3）是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体.它无色、无臭，在潮湿的空气中能发生下列反应：3NF3+5H2O 三氟化氮（NF3）是一种新型电子材料,它在潮湿的空气中与水蒸气能发生氧化还原反应三氟化氮(NF3)是一种无色无味的气体,它由氨(NH3)和氟(F2)在一定条件下直接反应得到,4NH3＋在微电子工业中,Nh3·H2O可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境的化学方程式 NF3气体在多高温度下能液化（压力1.0Mpa） NF3+H2O反应的化学方程式,生成物是HF NO HNO3 等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m? 钢铁在潮湿空气中发生电化学腐蚀时，正极发生的主要反应是（　　）四氟化碳在等离子体刻蚀中对人的危害有哪些? （2014•宿迁模拟）下列关于细胞中化合物的叙述，正确的是（　　）