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请问单晶硅片清洗剂清洗时硅片中冒泡泡是什么原理?另外超声波清洗的原理是什么?

来源:学生作业帮 编辑:百度作业网作业帮 分类:综合作业 时间:2024/05/01 21:29:22
请问单晶硅片清洗剂清洗时硅片中冒泡泡是什么原理?另外超声波清洗的原理是什么?
超声起作用需要一个过程吗?什么因素会影响超声波的正常工作?
请问单晶硅片清洗剂清洗时硅片中冒泡泡是什么原理?另外超声波清洗的原理是什么?
冒泡是超声波引起的气化空泡,不是光由清洗机引起的,清洗剂要水流有落差后才能不断产生泡沫,还有部分泡沫是硅和碱性清洗剂反应生成的氢气,超声是慢慢作用于硅片表面的,槽体内的水量会影响超声波电流大小,还有时间长一点超声作用也会明显点,硅片间缝隙越大超声效果也越好
再问: 清洗过程中冒泡是应该的吗?不冒泡是不是清洗效果会不好啊?最近清洗出的硅片表面检验合格,可是部分硅片制绒后有白斑,怀疑是有机物残留,也不知道究竟是什么原因造成的?
再答: 这个可能性种类很多,一般若是清洗后表面检查不出来就说明清洗没什么大问题,若是清洗剂不好应该是全部硅片制绒后都发白,看看你制绒发白比例,有可能是滤纸造成的,你把硅片放置时最外的亮片分开制绒看看效果会怎么样